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超純水制備系統在集成電路工廠(chǎng)應用中如何完善?
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來(lái)源：公司官網(wǎng) 發(fā)布日期：2014-09-12 17:20:37 瀏覽次數：1855
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眾所周知,超純水中雜質(zhì)會(huì )對器件帶來(lái)一系列的不利影響!所以,如何確定超純水系統流程以保證生產(chǎn)設備對超純水水質(zhì)的要求就成為超純水系統所要解決的首要問(wèn)題。
集成電路工廠(chǎng)的純水制備系統應根據原水水質(zhì)及工藝生產(chǎn)設備要求的超純水水質(zhì)來(lái)確定，一般由下列4部分組成：預處理系統、一次純水處理系統、超純水制取系統、回收水系統
預處理的目的是去除水中所含的懸浮物、膠體、高分子有機物等雜質(zhì)。需要指出的是，活性炭對去除TOC有非常好的效果，但它也往往成為微生物的滋生地。因此，在預處理系統中采用活性炭處理單元時(shí)，應將活性炭處理單元的進(jìn)水調成酸性，以防止微生物滋生。
在超純水制備的一次純水處理系統中，往往要使用反滲透裝置(RO)，且反滲透膜多以交聯(lián)芳香族聚酰胺復合膜為主，這類(lèi)膜的不足之處在于：抗氧化性差，氧化性物質(zhì)能導致膜聚合物分解，而活性炭恰恰對水中余氯、過(guò)氧水等氧化性物質(zhì)有良好的去除效果。因此，在超大規模集成電路超純水制備的預處理系統中采用活性炭處理單元是十分必要的。一次純水處理系統的目的是對預處理系統的出水進(jìn)一步進(jìn)行處理，代表性的裝置有反滲透、混合離子交換、一級膜脫氣、EDI(電再生脫鹽)、UV(紫外線(xiàn))、一級拋光等。其中，反滲透、UV進(jìn)一步去除一次純水處理系統遺留下來(lái)的TOC;混合離子交換既可去除一次純水處理系統遺留下來(lái)的TOC，也可去除SiO2;利用膜脫氣對預處理水中的溶解氧進(jìn)行處理;一級拋光采用高純樹(shù)脂，用來(lái)處理金屬離子。
超純水制取系統是為了去除一次純水處理系統中殘留的微量雜質(zhì)而設置的，值得注意的是，超純水制取系統在去除水中各種雜質(zhì)的同時(shí)，如何保證去除設備因自身材質(zhì)而引起的污染應引起人們的高度關(guān)注。也就是說(shuō)，一個(gè)完整的超純水系統，不但要有合理的制水流程，而且還要對每個(gè)處理設備自身的微量溶出問(wèn)題進(jìn)行研究。此外，超純水的輸送方法，配管、閥門(mén)材質(zhì)的選定也應引起人們的高度重視。
超大規模集成電路清洗設備要求的水質(zhì)幾乎均為超純水，這些清洗設備用水點(diǎn)的排水幾乎全部可以回收，經(jīng)回收處理后的水一部分可以作為冷卻塔和廢氣洗滌塔的補水，另一部分可以與超純水制備預處理系統的出水一起進(jìn)入預處理水池，作為超純水制備的補充水。目前，在實(shí)際工程中，水的回收率可以達到70%。要使回收水系統達到良好的處理效果，除了需要確定合理的處理流程外，生產(chǎn)設備排水的分類(lèi)收集也是非常重要的，這樣做，可以防止高濃度TOC和其他不純物質(zhì)進(jìn)入回收水系統。
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