稅務(wù)總局國產(chǎn)設備全額退稅：33類(lèi)儀器設備10類(lèi)研發(fā)機構

33類(lèi)“國產(chǎn)設備”

       科技開(kāi)發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設備，是指符合《中華人民共和國增值稅暫行條例實(shí)施細則》（財政部 國家稅務(wù)總局令第50號）第二十一條“固定資產(chǎn)”的相關(guān)規定，為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開(kāi)發(fā)提供必要條件的實(shí)驗設備、裝置和器械（不包括中試設備）。具體包括以下四類(lèi)：

       一、實(shí)驗環(huán)境方面

       一）教學(xué)實(shí)驗儀器及裝置；

       二）教學(xué)示教、演示儀器及裝置；

       三）超凈設備（如換氣、滅菌、純水、凈化設備等）；

       四）特殊實(shí)驗環(huán)境設備（如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設備等）；

       五）特殊電源、光源設備；

       六）清洗循環(huán)設備；

       七）恒溫設備（如水浴、恒溫箱、滅菌儀等）；

       八）小型粉碎、研磨制備設備。

       二、樣品制備設備和裝置

       一）特種泵類(lèi)（如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動(dòng)泵、蝸輪泵、干泵等）；

       二）培養設備（如培養箱、發(fā)酵罐等）；

       三）微量取樣設備（如取樣器、精密天平等）；

       四）分離、純化、濃縮設備（如離心機、層析、色譜、萃取、結晶設備、旋轉蒸發(fā)器等）；

       五）氣體、液體、固體混合設備（如旋渦混合器等）；

       六）制氣設備、氣體壓縮設備；

       七）專(zhuān)用制樣設備（如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等），實(shí)驗用注射、擠出、造粒、膜壓設備，實(shí)驗室樣品前處理設備。

       三、實(shí)驗室專(zhuān)用設備

       一）特殊照相和攝影設備（如水下、高空、高溫、低溫等）；

       二）科研飛機、船舶用關(guān)鍵設備；

       三）特種數據記錄設備（如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤(pán)機等）；

       四）材料科學(xué)專(zhuān)用設備（如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉換設備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機，材料實(shí)驗機等），可靠性試驗設備，微電子加工設備，通信模擬仿真設備，通信環(huán)境試驗設備；

       五）小型熔煉設備（如真空、粉末、電渣等），特殊焊接設備；

       六）小型染整、紡絲試驗專(zhuān)用設備；

       七）電生理設備。

       四、計算機工作站，中型、大型計算機。

10類(lèi)“研發(fā)機構”

       一、適用采購國產(chǎn)設備全額退還增值稅政策的內資研發(fā)機構和外資研發(fā)中心包括：

       一）科技部會(huì )同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的科技體制改革過(guò)程中轉制為企業(yè)和進(jìn)入企業(yè)的主要從事科學(xué)研究和技術(shù)開(kāi)發(fā)工作的機構；

       二）國家發(fā)展改革委會(huì )同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的國家工程研究中心；

       三）國家發(fā)展改革委會(huì )同財政部、海關(guān)總署、稅務(wù)總局和科技部核定的企業(yè)技術(shù)中心；

       四）科技部會(huì )同財政部、海關(guān)總署和稅務(wù)總局核定的國家重點(diǎn)實(shí)驗室（含企業(yè)國家重點(diǎn)實(shí)驗室）和國家工程技術(shù)研究中心；

       五）科技部核定的國務(wù)院部委、直屬機構所屬從事科學(xué)研究工作的各類(lèi)科研院所，以及各省、自治區、直轄市、計劃單列市科技主管部門(mén)核定的本級政府所屬從事科學(xué)研究工作的各類(lèi)科研院所；

       六）科技部會(huì )同民政部核定或者各省、自治區、直轄市、計劃單列市及新疆生產(chǎn)建設兵團科技主管部門(mén)會(huì )同同級民政部門(mén)核定的科技類(lèi)民辦非企業(yè)單位；

       七）工業(yè)和信息化部會(huì )同財政部、海關(guān)總署、稅務(wù)總局核定的國家中小企業(yè)公共服務(wù)示范平臺（技術(shù)類(lèi)）；

       八）國家承認學(xué)歷的實(shí)施專(zhuān)科及以上高等學(xué)歷教育的高等學(xué)校（以教育部門(mén)戶(hù)網(wǎng)站公布名單為準）；

       九）符合本公告第二條規定的外資研發(fā)中心；

       十）財政部會(huì )同國務(wù)院有關(guān)部門(mén)核定的其他科學(xué)研究機構、技術(shù)開(kāi)發(fā)機構和學(xué)校。

       二、外資研發(fā)中心，根據其設立時(shí)間，應分別滿(mǎn)足下列條件：

       一）2009年9月30日及其之前設立的外資研發(fā)中心，應同時(shí)滿(mǎn)足下列條件：

       1.研發(fā)費用標準：（1）對外資研發(fā)中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于500萬(wàn)美元；作為公司內設部門(mén)或分公司的非獨立法人的，其研發(fā)總投入不低于500萬(wàn)美元；（2）企業(yè)研發(fā)經(jīng)費年支出額不低于1000萬(wàn)元。

       2.專(zhuān)職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人。

       3.設立以來(lái)累計購置的設備原值不低于1000萬(wàn)元。

       二）2009年10月1日及其之后設立的外資研發(fā)中心，應同時(shí)滿(mǎn)足下列條件：

       1.研發(fā)費用標準：作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬(wàn)美元；作為公司內設部門(mén)或分公司的非獨立法人的，其研發(fā)總投入不低于800萬(wàn)美元。

       2.專(zhuān)職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人。

       3.設立以來(lái)累計購置的設備原值不低于2000萬(wàn)元。

       外資研發(fā)中心須經(jīng)商務(wù)主管部門(mén)會(huì )同有關(guān)部門(mén)按照上述條件進(jìn)行資格審核認定。具體審核認定辦法見(jiàn)附件1。在2018年12月31日（含）以前，初次取得退稅資格或通過(guò)資格復審未滿(mǎn)2年的，可繼續享受至2年期滿(mǎn)。

       三、經(jīng)核定的內資研發(fā)機構、外資研發(fā)中心，發(fā)生重大涉稅違法失信行為的，不得享受退稅政策。具體退稅管理辦法由稅務(wù)總局會(huì )同財政部另行制定。相關(guān)研發(fā)機構的牽頭核定部門(mén)應及時(shí)將內資研發(fā)機構、外資研發(fā)中心的新設、變更及撤銷(xiāo)名單函告同級稅務(wù)部門(mén)，并注明相關(guān)資質(zhì)起止時(shí)間。